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两次及多次曝光采样布拉格光栅及制作方法
  -------- 一般项目
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发布日期: 2020/9/10
项目编号: 164096 所属行业: 电子信息 现处阶段: 研发阶段
获专利情况: 项目所在地: 江苏 融资额: 面议
融资方式: 面谈    
   
 

项目关键词:两次及多次曝光采样布拉格光栅及制作方法

项目介绍

两次及多次曝光采样布拉格光栅,其中两次全息曝光形成的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅,在一个采样区间分成长度相等的两个部分,写入两种不同相位的布拉格光栅。两个部分包含的布拉格光栅之间的相位差为π时,0级及所有其他偶数级影子光栅消失,±1级强度达到最大值,为均匀DFB结构光栅的64%,是一次曝光采样光栅±1级强度的两倍。将采样布拉格光栅每个采样分成等距离的m个部分,每个采样的中的第n部分的相位是n×(2π/m),该采样光栅的1级影子光栅的有效强度最大,为均匀布拉格光栅的m/π×sin(π/m)×100%;或者每个采样的中的第n部分的相位是-n×(2π/m),该采样光栅的-1级影子光栅的有效强度最大,为均匀布拉格光栅的m/π×sin(π/m)×100%。


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