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能量过滤磁控溅射薄膜制备技术
  -------- 一般项目
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发布日期: 2018/12/6
项目编号: 164193 所属行业: 能源材料 现处阶段: 研发阶段
获专利情况: 项目所在地: 河南 融资额: 面议
融资方式: 面谈    
   
 

项目关键词:能量过滤磁控溅射薄膜制备技术

项目介绍

项目简介:

(1)能量过滤磁控溅射技术是对磁控溅射镀膜技术进行改进后的一种薄膜制备技术,可制备金属、半导体和氧化物等多种薄膜。与常规磁控溅射技术相比,该技术制备的薄膜晶粒均匀细小、结构致密、表面平整。图1给出了两种技术效果的比较。

(2)该技术抑制了高能粒子对衬底的轰击,减少了薄膜中的应力和结构缺陷,使薄膜不仅在结构特性方面有显著改善,在光电性能方面也有所提升。

(3)该技术设备投资比传统磁控溅射设备稍高,市场前景广阔。

技术创新点

(1)可以制备金属、半导体、介质等各种薄膜;(2) 制备的薄膜内部缺陷少、结构致密;(3) 能使薄膜晶粒细化,在非常宽泛的沉积条件范围内直接制备出晶粒直径约10nm、薄膜表面平整度Ra值 ≤ 3.0 nm,RP-V值 ≤ 20 nm的纳米薄膜;(4) 对衬底几乎不产生溅射损伤。

技术简介:

利用磁控溅射和能量过滤磁控溅射两种技术,以玻璃、单晶Si为衬底,分别制备了金属Ti膜、金属Al膜、TiO2薄膜和ITO薄膜。图1给出了两种技术在薄膜表面形貌效果的比较。


金属Ti膜表面SEM照片(玻璃衬底,室温)

合作方式:转让或合作



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